在科技飞速发展的如今,精磨减薄砂轮行业的技术创新日新月异,江苏优普纳科技有限公司始终走在技术创新的前沿。在结合剂技术方面,公司取得了重大突破。如研发的用于半导体晶圆减薄砂轮的微晶玻璃结合剂,其软化温度较低,却具备较高的强度和润湿性。这种结合剂能够更好地把持磨粒,同时在磨削过程中,由于其独特的物理化学性质,能使磨粒在合适的时机实现自锐,明显提升了砂轮的磨削性能和使用寿命。在磨粒制备技术上,优普纳针对不同的加工材料,研发出了一系列定制化的磨粒。例如,对于硬度极高的第三代半导体材料,通过优化金刚石磨粒的粒径、形状和表面处理工艺,使其在磨削过程中能够更高效地切入材料,减少磨削力,降低工件表面损伤风险。此外,在砂轮制造工艺上,引入先进的自动化生产设备和精密检测技术,实现了对砂轮制造过程的全程精确控制,确保每一片砂轮都具有稳定且优异的性能,不断推动精磨减薄砂轮技术向更高水平迈进,为行业发展注入新的活力。在6吋SiC线割片的精磨加工中,优普纳砂轮于DISCO-DFG8640减薄机上实现磨耗比100%,Ra≤3nm,TTV≤2μm。进口砂轮供应商

江苏优普纳科技有限公司:碳化硅减薄砂轮已通过东京精密、DISCO等主流设备的兼容性测试,并获得多家国际半导体厂商的认证。例如,在DISCO-DFG8640设备上,优普纳砂轮连续加工1000片8吋SiC晶圆后,磨耗比仍稳定在200%以内,精度无衰减。这一表现不只达到进口砂轮水平,更以快速交付与本地化服务赢得客户青睐,成为国产替代优先选择的品牌。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮,品质有保证,欢迎您的随时致电咨询,为您提供满意的产品以及方案。减薄工艺砂轮使用方法在8吋SiC线割片的粗磨加工中,优普纳砂轮于DISCO-DFG8640减薄机上达到磨耗比30%,Ra≤30nm,TTV≤3μm。

针对第三代半导体材料(SiC/GaN)的减薄需求,优普纳砂轮适配6吋、8吋晶圆,满足衬底片粗磨、精磨全流程。以东京精密HRG200X设备为例,6吋SiC线割片采用2000#砂轮粗磨,磨耗比只15%,Ra≤30nm;精磨使用30000#砂轮,磨耗比120%,Ra≤3nm,TTV稳定在2μm以下。DISCO设备案例中,8吋晶圆精磨后TTV≤2μm,适配性强,可替代日本、德国进口产品。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮,品质有保证,欢迎您的随时致电咨询,为您提供满意的产品以及方案。
江苏优普纳碳化硅减薄砂轮凭借超细金刚石磨粒与高自锐性设计,在第三代半导体晶圆加工中实现低损伤、低粗糙度的行业突破。以DISCO-DFG8640设备为例,精磨8吋SiC线割片时,砂轮磨耗比达200%,表面粗糙度Ra≤3nm,TTV精度≤2μm,完全满足5G芯片、功率器件对晶圆平整度的严苛要求。对比进口砂轮,优普纳产品在相同加工条件下可减少磨削热损伤30%,明显提升晶圆良率,尤其适用于新能源汽车电驱模块等高附加值领域。欢迎您的随时致电咨询。优普纳砂轮的高性能陶瓷结合剂,赋予产品优异的耐磨性和韧性,确保在高负荷加工条件下的稳定性能。

江苏优普纳科技有限公司:碳化硅减薄砂轮已获ISO9001质量管理体系认证,并拥有强度高的陶瓷结合剂、多孔显微调控技术等12项核心专利。第三方的检测数据显示,其砂轮磨削效率、寿命等指标均符合SEMI国际半导体设备与材料协会标准。在国产替代浪潮下,优普纳以技术硬实力打破“卡脖子”困局,成为第三代半导体产业链的关键支撑者。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮,品质有保证,欢迎您的随时致电咨询,为您提供满意的产品以及方案。优普纳碳化硅晶圆减薄砂轮,以低磨耗比和高表面质量,打破国外技术垄断 为国内半导体企业提供高性价比选择。减薄工艺砂轮使用方法
优普纳科技的碳化硅晶圆减薄砂轮,以技术创新为驱动,不断优化产品性能,满足了第三代半导体材料加工需求。进口砂轮供应商
优普纳不只提供高性能砂轮,更构建了覆盖售前、售中、售后的全周期服务体系。针对客户新设备导入或工艺升级需求,优普纳技术团队可提供磨削参数优化(如进给速度、冷却液配比)与砂轮选型指导。某客户在导入12吋SiC试验线时,优普纳通过定制25000#砂轮与工艺调试,将TTV从初始的5μm降至2μm,良率提升40%,加速产线量产进程。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮,品质有保证,欢迎您的随时致电咨询,为您提供满意的产品以及方案。进口砂轮供应商
文章来源地址: http://wjgj.shopjgsb.chanpin818.com/moju/shalun/deta_28596384.html
免责声明: 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息,均来源于其对应的用户,本网对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题,请及时与本网联系,我们将核实后进行删除,本网站对此声明具有最终解释权。